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    光掩膜技术研发中心

           清溢一直奉行技术先导的发展政策,公司成立之初,国内制作大面积光掩模的技术和人才完全空白。在没有任何外来技术援助的情况下,清溢科研人员在成立的第二年,就成功研制了国内首张大面积高精度铬版掩膜版。经过十余年的自主创新和人才培养,形成了完全自主的核心技术和人才团队。

     

            公司于2002年成立光掩模技术研究开发中心,并于2007年经深圳市科技和信息局批准成立依托于清溢的“深圳市光掩模技术研究开发中心”。

     

            目前,清溢研发中心,正以“激活内脑、用活外脑”为方针,走产、学、研相结合的道路,联合国内外相关企业和科研机构开创新技术来源,通过不断的自主科技创新,推动中国高精度大面积掩膜版制造行业赶超国际一流水平。

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